華為云計(jì)算 云知識(shí) LiteOS 5.0 五大新特性簡(jiǎn)化端側(cè)設(shè)備開(kāi)發(fā)和調(diào)測(cè)
LiteOS 5.0 五大新特性簡(jiǎn)化端側(cè)設(shè)備開(kāi)發(fā)和調(diào)測(cè)
時(shí)間: 2021-04-27 14:30:48
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內(nèi)容簡(jiǎn)介：

踩內(nèi)存， 鏡像 文件太大，系統(tǒng)運(yùn)行軌跡追蹤難、資源占用難分析等等問(wèn)題，對(duì)物聯(lián)網(wǎng)端側(cè)開(kāi)發(fā)者造成困難，影響開(kāi)發(fā)效率，LiteOS 5.0五大新特性，即新架構(gòu)、新編譯框架、新輕量級(jí)AI框架、新組件和庫(kù)、新開(kāi)發(fā)和調(diào)試工具，助力開(kāi)發(fā)者快速開(kāi)發(fā)，本次分享將結(jié)合實(shí)際開(kāi)發(fā)案例，重點(diǎn)剖析使用LiteOS 5.0 新特性解決上述開(kāi)發(fā)難題。

內(nèi)容大綱：

1. 物聯(lián)網(wǎng)端側(cè)設(shè)備開(kāi)發(fā)難題。

2. LiteOS 5.0 五大新特性。

3. LiteOS Studio開(kāi)發(fā)和調(diào)測(cè)工具。

4. LiteOS 2021開(kāi)源路標(biāo)。

聽(tīng)眾收益：

1. 了解LiteOS 5.0 新架構(gòu)、新編譯框架、新組件和庫(kù)；

2. 了解LiteOS Studio可視化組件管理，讓開(kāi)發(fā)更容易；

3. 了解LiteOS Studio開(kāi)發(fā)調(diào)測(cè)工具：輕量級(jí)內(nèi)存檢測(cè)、鏡像分析工具、可視化Trace等，助力開(kāi)發(fā)者快速定位問(wèn)題，解決開(kāi)發(fā)難題；

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